Автор: Реньян В. Р.
Основное заглавие: Технология полупроводникового кремния
Ответственность: пер. с англ. Туровского Б. М. [и др.] ; под ред. Шашкова Ю. М.
Физический носитель: текст
Год публикации: 1969
Место издания: Москва
Издательство: Металлургия
Объем: 335 с.
Примечание: Доп. тит. л.: Technology semiconductor silicon. W. R. Runyan
Ключевые слова: Иностранная литература; Английский язык; Кремний; Получение;
ББК: 35.25
Библиография: Библиогр.: с. 322-332 (332 назв.)
№ | Инвентарный номер |
Сигла | Статус | Дата возврата |
---|---|---|---|---|
1 | 1454011 | кх | Доступна | - |
При использовании данного сайта, вы подтверждаете свое согласие на использование файлов «cookie» и других похожих технологий, а также платформы для связи с клиентами Jivo и сервиса «Яндекс. Метрика», «Яндекс Метрика для приложений» (AppMetrica), которое является частью политики ГБУК «СОУНБ» в отношении обработки персональных данных . Вы всегда можете отключить Cookie-файлы в настройках Вашего браузера